ポリエチレンナフタレートフィルムの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-030432
公開番号（公開出願番号）：特開平7-238152
出願日： 1994年02月28日
公開日（公表日）： 1995年09月12日
要約：

【要約】【目的】本発明は、表面欠点、厚み斑の極めて少ないポリエチレンナフタレートフィルムの製造方法の提供を目的とする。【構成】ビス(ヒドロキシエチル)ナフタレートを連続的に重縮合して得たポリエチレンナフタレートを用いることを特徴とする、ポリエチレンナフタレートフィルムの製造方法。【効果】本発明の方法で得たポリエチレンナフタレートフィルムは、表面に粗大突起や筋状欠点がほとんど無く、さらに厚み斑が著しく少なく良好な特性を有しているので、磁気記録媒体、フィルムコンデンサー、電気絶縁、写真用フィルム、製版などの材料として好適であり、これらの性能向上に寄与する。

請求項（抜粋）：