特許

J-GLOBAL ID：200903027053127488

ゲル状コンポジット電解質の製膜方法

発明者： 山本 哲 ,  村田 誠
出願人/特許権者： セラニーズ・ヴェンチャーズ・ゲーエムベーハー
代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-533912
公開番号（公開出願番号）：特表2002-510120
出願日： 1999年02月24日
公開日（公表日）： 2002年04月02日
要約：

【要約】【課題】 均一な膜厚を有するゲル状コンポジット電解質を製膜すること。【解決手段】 リチウム塩と、沸点が240°C以上の電解質溶媒と、沸点が40°C以上210°C以下の希釈溶媒とを混合して、電解質溶液を得る工程と、前記電解質溶液と、ゲル化剤とを混合して、ゲル状コンポジット電解質を得る工程と;前記ゲル状コンポジット電解質を膜形状に成形する工程と;次いで、前記希釈溶媒を除去する工程とを有する方法。

請求項（抜粋）：

リチウム塩と、1気圧における沸点が240°C以上の電解質溶媒と、1気圧における沸点が40°C以上210°C以下の希釈溶媒とを混合して、電解質溶液を得る工程と、ここで、前記電解質溶媒は、リチウム塩を溶解することができる有機溶媒であり、かつ、25°Cで液体であり、前記希釈溶媒は、非プロトン性極性有機溶媒であり、かつ、25°Cで液体であり; 前記電解質溶液と、ゲル化剤とを混合して、ゲル状コンポジット電解質を得る工程と; 前記ゲル状コンポジット電解質を膜形状に成形する工程と;次いで、 前記ゲル状コンポジット電解質から前記希釈溶媒を除去する工程と を有する、ゲル状コンポジット電解質の製膜方法。

IPC (4件)：

H01M 6/22 ,  H01B 13/00 ,  H01M 6/18 ,  H01M 10/40

FI (4件)：

H01M 6/22 C ,  H01B 13/00 Z ,  H01M 6/18 E ,  H01M 10/40 B

Fターム (17件)：

5H024BB07 ,  5H024FF15 ,  5H024FF20 ,  5H024FF23 ,  5H024HH00 ,  5H024HH01 ,  5H024HH11 ,  5H029AJ01 ,  5H029AM00 ,  5H029AM03 ,  5H029AM04 ,  5H029AM06 ,  5H029AM16 ,  5H029CJ08 ,  5H029HJ00 ,  5H029HJ01 ,  5H029HJ14

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 二次電池及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-075466   出願人：キヤノン株式会社
• ゾル-ゲル組成物及びそれから製造された高分子イオン伝導膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-228238   出願人：財団法人韓国化学研究所
• 高分子固体電解質およびそれを用いたリチウム二次電池
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-051557   出願人：ジェイエスアール株式会社