特許

J-GLOBAL ID：200903027094125708

電子線を通す窓を製造する方法、及び、電子線を通す窓

発明者： ペーター クラオス バハマン ,  マンフレート ベックマン ,  ペーター フリシコウスキ ,  ジェフリー ハーディング
出願人/特許権者： コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-314495
公開番号（公開出願番号）：特開2002-197973
出願日： 2001年10月11日
公開日（公表日）： 2002年07月12日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、電子線を通す窓を製造する方法、並びに、電子線を通す窓を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、電子線を通す箔(1;101)と、動作状態において電子線を通す箔の周辺領域(1a、1b)を支持する素子(2;102)とを有する、電子線を通す窓に関わり、この素子は、箔の材料よりも大きい線熱膨張係数を有する材料から成り、中間層(4;104a、b)を更に有し、この中間層は箔(1;101)と支持素子として機能する保持素子(2;102)との間に配置され、処理温度の範囲に関して、箔の材料の線熱膨張係数に等しい又は近く、保持素子の線熱膨張係数よりも小さい線熱膨張係数を有する材料から成る。本発明は、電子線を通す窓を製造する方法、及び、電子線を通す窓を具備するX線装置に更に関わる。

請求項（抜粋）：

電子線を通す箔と、動作状態において電子線を通す上記箔の周辺領域を保持し、上記箔の材料よりも大きい線熱膨張係数を有する材料から成る素子とを有する、電子線を通す窓を製造する方法であって、電子線を通す箔を製造する段階と、処理温度の範囲に関して、上記箔の材料の線熱膨張係数に等しい又は近く、保持素子の材料の線熱膨張係数よりも小さい線熱膨張係数を有する材料から成る中間層を介して支持素子として機能する上記保持素子に、電子線を通す上記箔を接合する段階とを有し、上記中間層は接合処理中に上記保持素子と上記箔との間の熱膨張特性における差を受け入れる緩衝材となることを特徴とする方法。

IPC (6件)：

H01J 9/24 ,  G01T 7/00 ,  G21K 5/08 ,  H01J 9/02 ,  H01J 35/08 ,  H01J 35/16

FI (6件)：

H01J 9/24 A ,  G01T 7/00 A ,  G21K 5/08 X ,  H01J 9/02 J ,  H01J 35/08 B ,  H01J 35/16

Fターム (4件)：

2G088JJ08 ,  2G088JJ37 ,  5C012AA09 ,  5C012BB01

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開昭56-042200
  
• ビーム透過用窓の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-232113   出願人：三菱アルミニウム株式会社
• 特開平2-138900
  
• 電子ビーム管
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-148577   出願人：ウシオ電機株式会社
• 液体金属タ-ゲットを有するX線源
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-131444   出願人：コーニンクレッカフィリップスエレクトロニクスエヌヴィ