特許
J-GLOBAL ID:200903027133775260

超高真空用真空計

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 八木田 茂 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-194466
公開番号(公開出願番号):特開平5-133833
出願日: 1991年08月02日
公開日(公表日): 1993年05月28日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】電子衝撃によつて生成された光を利用して圧力を測定する超高真空用真空計において、超高真空の圧力領域でも十分な感度をもって正確に測定できるようにする。【構成】フィラメント1・集電子電極組立体2と真空紫外領域の光を検出する光検出器6との間に、電子阻止電極3及びイオン阻止電極4を、光検出器6が幾何学的にフィラメント1・集電子電極組立体2を見込まないように設ける。
請求項(抜粋):
励起された気体分子が基底状態に戻る際に放出する100nm 以下の真空紫外光を利用して超高真空を測定する超高真空用真空計において、電子衝撃によってイオン、励起中性粒子及び真空紫外光を生成するフィラメント・集電子電極組立体と真空紫外領域の光を検出する光検出器との間に、気体分子を励起させる電子が光検出器へ入り込むのを阻止する電子阻止電極と、生成されたイオンを除去するイオン阻止電極とを配置し、光検出器が幾何学的にフィラメント・集電子電極組立体を見込まないように電子阻止電極及びイオン阻止電極を配置したことを特徴とする超高真空用真空計。

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