特許

J-GLOBAL ID：200903027200879202

ハニカムフィルタ及びその製造方法

発明者： 高橋 和久
出願人/特許権者： イビデン株式会社
代理人 (1件)： 安富 康男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-024320
公開番号（公開出願番号）：特開2002-224516
出願日： 2001年01月31日
公開日（公表日）： 2002年08月13日
要約：

【要約】【課題】 堆積したパティキュレートを除去する再生処理において、その再生率に優れるとともに、欠け等が発生することがない耐久性に優れるハニカムフィルタを提供する。【解決手段】 多数の貫通孔が隔壁を隔てて長手方向に並設された角柱形状の多孔質セラミック部材が接着剤層を介して複数個結束され、上記貫通孔を隔てる隔壁が粒子捕集用フィルタとして機能するように構成されたハニカムフィルタであって、上記ハニカムフィルタの端面の平面度が2mm以下であることを特徴とするハニカムフィルタ。

請求項（抜粋）：

多数の貫通孔が隔壁を隔てて長手方向に並設された角柱形状の多孔質セラミック部材が接着剤層を介して複数個結束され、前記貫通孔を隔てる隔壁が粒子捕集用フィルタとして機能するように構成されたハニカムフィルタであって、前記ハニカムフィルタの端面の平面度が2mm以下であることを特徴とするハニカムフィルタ。

IPC (2件)：

B01D 39/20 ,  F01N 3/02 301

FI (2件)：

B01D 39/20 D ,  F01N 3/02 301 C

Fターム (7件)：

3G090AA02 ,  3G090BA04 ,  4D019AA01 ,  4D019BA05 ,  4D019BB10 ,  4D019CA01 ,  4D019CB04

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 排気ガス浄化装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-172863   出願人：イビデン株式会社