ウエハ欠陥検査装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-351965
公開番号（公開出願番号）：特開2003-149169
出願日： 2001年11月16日
公開日（公表日）： 2003年05月21日
要約：

【要約】【課題】各種の欠陥を検出できる半導体ウエハ用欠陥検査装置を低コストで実現する。【解決手段】ウエハ2上に形成されたパターンの画像を投影する光学系と、投影された画像を画像信号に変換するイメージセンサ4と、画像信号を処理して欠陥部分を検出する信号処理装置5,6,7とを備えるウエハ欠陥検査装置であって、光学系は、対物レンズ3と、投影経路中に設けられた半透鏡58を有し、半透鏡で反射させた照明光を、対物レンズを通して試料上に照射する明視野照明系と、対物レンズの投影経路を除く部分に設けられた反射鏡69を有し、反射鏡で反射させた照明光を、対物レンズを通して試料上に照射する暗視野照明系と、を備える。

請求項（抜粋）：

ウエハ上に形成されたパターンの画像を投影する光学系と、投影された画像を画像信号に変換するイメージセンサと、前記画像信号を処理して欠陥部分を検出する処理装置とを備えるウエハ欠陥検査装置であって、前記光学系は、対物レンズと、該対物レンズの投影経路中に設けられた半透鏡を有し、該半透鏡で反射させた前記対物レンズの光軸を含む範囲の照明光を、前記対物レンズを通して試料上に照射する明視野照明系と、前記対物レンズの投影経路を除く部分に設けられた反射鏡を有し、該反射鏡で反射させた前記対物レンズの光軸の周辺を除く範囲の照明光を、前記対物レンズを通して試料上に照射する暗視野照明系と、を備えることを特徴とするウエハ欠陥検査装置。

IPC (5件)：

G01N 21/956 , G02B 21/06 , G02B 21/10 , G02B 21/12 , H01L 21/66

FI (5件)：

G01N 21/956 A , G02B 21/06 , G02B 21/10 , G02B 21/12 , H01L 21/66 J

Fターム (26件)：

2G051AA51 , 2G051AB02 , 2G051BA01 , 2G051BB01 , 2G051BB05 , 2G051BB07 , 2G051BB11 , 2G051BC01 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051CB05 , 2H052AB24 , 2H052AC04 , 2H052AC08 , 2H052AC14 , 2H052AC17 , 2H052AC27 , 2H052AC28 , 2H052AD34 , 2H052AF14 , 4M106AA01 , 4M106BA10 , 4M106CA39 , 4M106DB18 , 4M106DB19

引用特許：

審査官引用 (4件)

表面検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-341505 出願人：株式会社ニデック
特開昭63-186132
特開昭61-120110

全件表示

前のページに戻る