特許

J-GLOBAL ID：200903027244237488

蒸着装置、蒸着方法、有機EL装置、および電子機器

発明者： 冨岡 俊二
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-178383
公開番号（公開出願番号）：特開2006-002200
出願日： 2004年06月16日
公開日（公表日）： 2006年01月05日
要約：

【課題】シャッターに付着した付着物が剥離して蒸着源の上部を覆うことを防止することが可能な蒸着装置、蒸着方法、有機EL装置、および電子機器を提供することを目的とする。【解決手段】本発明の蒸着装置は、蒸着源により蒸着材料を気化させて、基板の蒸着面に膜形成を行う蒸着装置において、前記蒸着源の開口部の近傍に、蒸着レートを調整するためのシャッターを備え、前記シャッターの前記蒸着源側の面に、微細な凹凸を形成したものである。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

蒸着源により蒸着材料を気化させて、基板の蒸着面に膜形成を行う蒸着装置において、 前記蒸着源の開口部の近傍に、蒸着レートを調整するためのシャッターを備え、 前記シャッターの前記蒸着源側の面に、微細な凹凸を形成したことを特徴とする蒸着装置。

IPC (3件)：

C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50

FI (3件)：

C23C14/24 G ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (12件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DA12 ,  4K029DB14 ,  4K029EA02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 有機EL素子の製造方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-390428   出願人：新日鐵化学株式会社