半導体製造装置における薬液自動供給機構

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-278968
公開番号（公開出願番号）：特開平9-129533
出願日： 1995年10月26日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：

【要約】【課題】薬液供給ラインの装置構成が簡素化された半導体製造装置における薬液自動供給機構を提供する。【解決手段】配管PBによりエアー供給部1からオリフィスを有するメカニカルレギュレータ3を介してエアーをバッファタンク12に供給することにより、バッファタンク12内の圧力を一定に保ち、配管PAにより現像液供給部6からバッファタンク12に現像液を補充しながら、配管PCによりノズル17に現像液を供給し、一定圧力で吐出させることができる。このように、1系統の現像液供給ラインに1式のバッファタンク12およびメカニカルレギュレータ3を含む構成としているので、簡素化された装置構成であるため設置スペースが少なくて済み、装置部品にかかるコストを抑えることができる。

請求項（抜粋）：

薬液供給部から供給される薬液が収容されたバッファタンクに加圧系統から加圧気体を供給し、前記加圧気体の圧力によって前記薬液を前記バッファタンクから半導体製造装置へと吐出させる薬液自動供給機構において、前記加圧系統内に介挿されて前記バッファタンク内における前記気体の圧力を調整するレギュレータとして、前記気体を常時微量ずつリリーフするオリフィスを有するメカニカルレギュレータまたは、電空レギュレータが使用され、それによって、前記薬液供給部から前記バッファタンクへの薬液供給中にも前記バッファタンクの内圧が一定に保たれるとともに、前記バッファタンクが単一とされていることを特徴とする、半導体製造装置における薬液自動供給機構。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , H01L 21/304 341 , B67D 5/54

FI (4件)：

H01L 21/30 564 C , H01L 21/304 341 N , B67D 5/54 , H01L 21/30 569 C

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平3-043700
特開平3-288100
特開平4-294538

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審査官引用 (7件)

特開平3-043700
特開平3-116818
特開平3-043700

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