特許
J-GLOBAL ID：200903027274531631
水処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大澤 斌 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-288241
公開番号（公開出願番号）：特開平11-123380
出願日： 1997年10月21日
公開日（公表日）： 1999年05月11日
要約：
【要約】【課題】 薬剤洗浄の頻度を少なくし、かつ分離膜の汚染劣化を防止できる膜分離式水処理装置を提供することである。【解決手段】 本水処理装置10Aは、原水を膜分離する分離膜モジュール14を備え、分離膜モジュールにより原水を膜分離して、処理水を得るようにした水処理装置である。本装置は、分離膜モジュールの膜間差圧を測定し、膜間差圧が設定上限値に到達した時点で、その旨の出力信号を出力する圧力計測手段22と、圧力計測手段から出力信号を受けるまでは、処理水の流量が通常時設定値になるように、出力信号を受けた後は、処理水の流量が通常時設定値より低い汚染時設定値になるように、処理水の流量を制御する流量制御手段26、28とを有する。
請求項（抜粋）：
分離膜モジュールを備え、原水を分離膜により膜分離して、原水中に含まれる分離対象物を分離し、透過した水を処理水として流出させるようにした水処理装置であって、分離膜モジュールの膜間差圧を測定し、膜間差圧が設定上限値に到達した時点で、その旨の出力信号を出力する圧力計測手段と、圧力計測手段から出力信号を受けるまでは、処理水の流量が通常時設定値になるように、また出力信号を受けた後は、処理水の流量が通常時設定値より低い汚染時設定値になるように、処理水の流量を制御する流量制御手段とを有することを特徴とする水処理装置。
IPC (3件)：
C02F 1/44
, B01D 65/02
, C02F 1/00
C02F 1/44 H
, C02F 1/44 C
, B01D 65/02
, C02F 1/00 S
