特許
J-GLOBAL ID：200903027276374584
チャンバクリーニングの終点検出方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-505347
公開番号（公開出願番号）：特表2001-527151
出願日： 1998年07月29日
公開日（公表日）： 2001年12月25日
要約：
【要約】エミッションラインの比が閾値に到達したときにクリーニングの完了ないし終点を光電子により検出する事項を含む、CVDチャンバのクリーニングの方法及び装置。本発明は、チャンバ内にクリーニングガスのプラズマを与えるステップと、クリーニングガスからプラズマを生成するステップを有している。クリーニングガスのエミッションラインの強度と、チャンバ内の少なくとも1つの背景ガスの強度がモニタされる。クリーニングガスエミッションラインに対する背景エミッションラインの強度の比が、経時的に測定されモニタされる。測定された比を、プレセットした閾値検量値と比較する。この比較のステップを基にして、クリーニングガスの流量を制御する。
請求項（抜粋）：
処理チャンバをクリーニングするための方法であって、(1)チャンバ内にクリーニングガスのプラズマを与えるステップと、(2)クリーニングガスのエミッションラインの強度をモニタするステップと、(3)チャンバ内の少なくとも1つの背景ガスのエミッションラインの強度をモニタするステップと、(4)クリーニングガスエミッションラインと背景ガスのエミッションラインの強度の比を求めるステップと、(5)求めた比を時間に関してモニタするステップと、(6)求めた比をプレセットした閾値と比較するステップと、(g)比較のステップに基づき、ガスの流れを制御するステップとを有する方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 16/44 J
, H01L 21/205
4K030BA29
, 4K030DA06
, 4K030KA08
, 5F045AC02
, 5F045EB06
, 5F045EE12
, 5F045EE13
, 5F045EE14
, 5F045EH05
, 5F045EH14
, 5F045GB08
, 5F045GB16
