特許
J-GLOBAL ID：200903027315757984
熱処理方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
井上 一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-148484
公開番号（公開出願番号）：特開平7-147257
出願日： 1994年06月07日
公開日（公表日）： 1995年06月06日
要約：
【要約】【目的】 昇温時に被処理体にスリップ、歪みを生じされることなく、被処理体の面内の温度均一性を改善すること。【構成】 縦型プロセスチューブ上方に、面状発熱源20が設けられている。この縦型プロセスチューブ12内の処理位置P2に向けて、被処理体Wを搭載して昇降するホルダー30が設けられている。このホルダー30は、縦型プロセスチューブ12の下方の受け渡し室56内の受け渡し位置P1において、隣接するロードロック室52,54との間でウエハWの受け渡しを行なう。ホルダー30は、受け渡し位置P1と処理位置P2との間の中間停止位置P3にて一旦停止し、面状発熱源20からの輻射熱により、被処理体が最も吸熱効率の高い温度例えば400〜600°Cにて、被処理体Wを予備加熱する。
請求項（抜粋）：
被処理体の搬入出用の下端開口を有し、処理位置に配置される被処理体を加熱する熱源を上方に備えている縦型プロセスチューブと、水平に支持した状態の前記被処理体を、前記開口から前記プロセスチューブ内に搬入して前記処理位置に設定する上方停止位置と、前記開口より下方に前記被処理体を搬出して受け渡し位置に設定する下方停止位置と、の間を上下動可能な被処理体用ホルダーと、を有する熱処理装置において熱処理するにあたり、前記被処理体用ホルダーを上昇駆動させて、前記上方停止位置と前記下限停止位置との間の中間位置にて停止し、前記熱源により前記被処理体を予備加熱する工程を設けたことを特徴とする熱処理方法。
IPC (4件)：
H01L 21/22 511
, H01L 21/205
, H01L 21/31
, H01L 21/324
