特許
J-GLOBAL ID：200903027340322739
有機EL素子およびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 詔男 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-207463
公開番号（公開出願番号）：特開2002-025781
出願日： 2000年07月07日
公開日（公表日）： 2002年01月25日
要約：
【要約】【課題】 パターン形成装置等を必要とせず、真空蒸着装置によって、有機EL素子作製基板を大気に曝することなく真空一貫工程で、製造工数の増大を招くことなく、有機EL素子の信頼性低下を防止し、製造コストの低減を可能とする。【解決手段】 基板11に並設された複数の透明電極12と、隣接する透明電極12どうしの間のスペース部Sに形成された絶縁有機層18と、これら透明電極および絶縁有機層の上側に形成された発光層15を含む有機層19と、有機層19の上側に透明電極12と交差する方向に延在する複数の陰極17と、を具備する有機EL素子10の製造方法であって、透明電極12を形成する工程と、絶縁有機層18を形成する工程と、有機層19を形成する工程と、陰極17を形成する工程との各工程を真空一貫でおこなう。
請求項（抜粋）：
基板に並設された複数の透明電極と、前記透明電極と交差する方向に延在する複数の陰極と、これら透明電極と陰極との間に形成された発光層を含む有機層と、を具備する有機EL素子であって、隣接する前記透明電極どうしの間のスペース部に、絶縁有機層が形成されてなることを特徴とする有機EL素子。
IPC (3件)：
H05B 33/22
, H05B 33/10
, H05B 33/14
H05B 33/22 Z
, H05B 33/10
, H05B 33/14 A
3K007AB04
, 3K007AB11
, 3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007CA01
, 3K007CB01
, 3K007DA01
, 3K007DB03
, 3K007EA00
, 3K007EB00
, 3K007FA01
