低抵抗透明導電膜及びその製造法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：打揚洋次 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-050301
公開番号（公開出願番号）：特開2003-249126
出願日： 2002年02月26日
公開日（公表日）： 2003年09月05日
要約：

【要約】【課題】焼結温度が低く、かつ、焼結後の電気抵抗が小さい所定の膜厚を有する薄膜状の透明導電膜及びその製造法の提供。【解決手段】導電性金属微粒子膜及び導電性金属膜を、この順序で複数層積層し、この積層膜を一括して、又は各膜の形成毎に、大気中で、180〜250°Cで燒結して透明導電膜を形成する。

請求項（抜粋）：

被処理基板上に透明導電性金属膜からなる層及び透明導電膜形成用金属酸化物の膜からなる層を、この順序で、交互に複数層積層し、各層毎に又は積層膜を一括して燒結してなる構造を有することを特徴とする低抵抗透明導電膜。

IPC (2件)：

H01B 5/14 , H01B 13/00 503

FI (2件)：

H01B 5/14 A , H01B 13/00 503 B

Fターム (7件)：

5G307FB01 , 5G307FB02 , 5G307FC10 , 5G323AA00 , 5G323BA01 , 5G323BA02 , 5G323BC03

引用特許：

審査官引用 (15件)

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