特許
J-GLOBAL ID:200903027368398471
電子線硬化型酸素阻害抑制剤、それを含む電子線硬化型組成物、それを用いた硬化被膜の形成方法および硬化物
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-230506
公開番号(公開出願番号):特開2000-063410
出願日: 1998年08月17日
公開日(公表日): 2000年02月29日
要約:
【要約】【課題】【解決手段】シクロアルカン構造を有する(メタ)アクリル系化合物からなる電子線硬化型酸素阻害抑制剤、該電子線硬化型酸素阻害抑制剤と、他の(メタ)アクリル系化合物またはビニルエーテル系化合物とを含み、500ppm以上の酸素濃度下においても電子線で硬化せしめることができる電子線硬化型組成物、該電子線硬化型組成物に500ppm以上の酸素濃度下において電子線を照射せしめる硬化被膜の形成方法、および上記電子線硬化型組成物に500ppm以上の酸素濃度下において電子線を照射せしめてなる硬化物。
請求項(抜粋):
シクロアルカン構造を有する(メタ)アクリル系化合物からなる電子線硬化型酸素阻害抑制剤。
IPC (4件):
C08F 2/54
, C08F 2/44
, C08F 16/14
, C08F 20/10
FI (4件):
C08F 2/54
, C08F 2/44 B
, C08F 16/14
, C08F 20/10
Fターム (67件):
4J011QA03
, 4J011QA07
, 4J011QA15
, 4J011QA18
, 4J011QA25
, 4J011QA34
, 4J011QA35
, 4J011QA38
, 4J011QA45
, 4J011QB07
, 4J011TA08
, 4J011UA03
, 4J011VA06
, 4J011WA01
, 4J011WA02
, 4J011WA05
, 4J011WA06
, 4J100AE02Q
, 4J100AE05Q
, 4J100AE09Q
, 4J100AE10Q
, 4J100AE70Q
, 4J100AE76Q
, 4J100AJ02Q
, 4J100AL03Q
, 4J100AL04Q
, 4J100AL05Q
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL09Q
, 4J100AL10Q
, 4J100AL62Q
, 4J100AL63Q
, 4J100AL66P
, 4J100AL66Q
, 4J100AL67P
, 4J100AL67Q
, 4J100BA03P
, 4J100BA03Q
, 4J100BA04Q
, 4J100BA05Q
, 4J100BA06Q
, 4J100BA08P
, 4J100BA08Q
, 4J100BA11P
, 4J100BA15P
, 4J100BA16P
, 4J100BA16Q
, 4J100BA21P
, 4J100BA27P
, 4J100BA62Q
, 4J100BC04P
, 4J100BC07Q
, 4J100BC08P
, 4J100BC21Q
, 4J100BC32Q
, 4J100BC43Q
, 4J100BC45Q
, 4J100BC53Q
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100FA00
, 4J100FA18
, 4J100JA01
, 4J100JA03
, 4J100JA05
, 4J100JA07
引用特許: