特許

J-GLOBAL ID：200903027386915319

リソグラフィ用ペリクル及びその製造方法

発明者： 永田 愛彦
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-321008
公開番号（公開出願番号）：特開2004-157229
出願日： 2002年11月05日
公開日（公表日）： 2004年06月03日
要約：

【課題】従来のスピンコート法などに比べて、簡単かつ確実に、しかも安価で大型のものの製造が可能であり、膜厚のムラが少なく、光線透過率が均一で高いペリクル膜を有する比較的大きなサイズのリソグラフィ用ペリクル、およびその製造方法を提供する。【解決手段】少なくとも、ゴミよけ用のペリクル膜と、該ペリクル膜を張設するペリクルフレームと、ペリクル膜を張設するためにペリクルフレームの一方の端面に設けられた接着剤層と、ペリクルフレームのもう一方の端面に設けられた粘着層とを有するリソグラフィ用ペリクルであって、前記ペリクル膜が、ダイコーターにより成膜されたものであることを特徴とするリソグラフィ用ペリクル及びその製造方法。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

少なくとも、ゴミよけ用のペリクル膜と、該ペリクル膜を張設するペリクルフレームと、ペリクル膜を張設するためにペリクルフレームの一方の端面に設けられた接着剤層と、ペリクルフレームのもう一方の端面に設けられた粘着層とを有するリソグラフィ用ペリクルであって、前記ペリクル膜が、ダイコーターにより成膜されたものであることを特徴とするリソグラフィ用ペリクル。

IPC (2件)：

G03F1/14 ,  H01L21/027

FI (2件)：

G03F1/14 J ,  H01L21/30 502P

Fターム (1件)：

2H095BC34

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ペリクル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-060611   出願人：旭硝子株式会社
• 塗布装置および塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-038229   出願人：キヤノン株式会社
• ペリクル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-165515   出願人：旭化成電子株式会社