液晶表示装置の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：服部雅紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-314620
公開番号（公開出願番号）：特開平9-189924
出願日： 1996年11月26日
公開日（公表日）： 1997年07月22日
要約：

【要約】【課題】写真工程の数を減らすことのできる液晶表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】 1次写真工程で基板30上に第1及び第2金属膜31、33が順次に積層されてなるゲート電極及びゲートパッドを形成する段階と、基板30の全面に絶縁膜35を形成する段階と、2次写真工程でTFT部Cの絶縁膜35上に半導体膜パターンを形成する段階と、3次写真工程でTFT部Cにソース電極41a及びドレイン電極41bを形成しパッド部Eにパッド電極41cを形成する段階と、4次写真工程でドレイン電極41bの一部、ゲートパッドの一部及びパッド電極41cの一部を露出させる保護膜パターン43を形成する段階と、保護膜パターン43をマスクとしてゲートパッドを構成する第2金属膜33を蝕刻して第1金属膜31を露出させる段階と、5次写真工程でドレイン電極41bと連結されゲートパッドと連結された画素電極47を形成する段階とを含む。

請求項（抜粋）：

1次写真工程を用いてTFT部及びゲート-パッド連結部の基板上に第1金属膜及び第2金属膜が順次に積層されてなるゲート電極及びゲートパッドを各々形成する段階と、ゲート電極及びゲートパッドが形成された前記基板の全面に絶縁膜を形成する段階と、2次写真工程を用いてTFT部の前記絶縁膜上に半導体膜パターンを形成する段階と、3次写真工程を用いてTFT部に第3金属膜よりなるソース電極及びドレイン電極を形成し、パッド部に第3金属膜よりなるパッド電極を形成する段階と、4次写真工程を用いて前記ドレイン電極の一部、ゲートパッドの一部及びパッド電極の一部を露出させる保護膜パターンを形成する段階と、前記保護膜パターンをマスクとして前記ゲートパッドを構成する第2金属膜を蝕刻して第1金属膜を露出させる段階と、5次写真工程を用いて前記TFT部のドレイン電極と連結され、前記ゲート-パッド連結部のゲートパッドとパッド部のパッド電極を連結する画素電極を形成する段階とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。

IPC (4件)：

G02F 1/136 500 , G02F 1/1333 505 , G02F 1/1343 , H01L 29/786

FI (5件)：

G02F 1/136 500 , G02F 1/1333 505 , G02F 1/1343 , H01L 29/78 617 L , H01L 29/78 617 M

引用特許：

審査官引用 (6件)

薄膜トランジスタの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-047430 出願人：富士通株式会社
液晶表示装置およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-019856 出願人：株式会社日立製作所
液晶表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-127354 出願人：三洋電機株式会社

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