特許

J-GLOBAL ID：200903027444607816

静電吸着ホルダの吸着力検出方法と装置

発明者： 篠原 武一
出願人/特許権者： アネルバ株式会社
代理人 (1件)： 田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-131385
公開番号（公開出願番号）：特開平11-307621
出願日： 1998年04月24日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：

【要約】【課題】 静電吸着力で固定された試料の裏面に伝熱ガスを流す構成で静電吸着力の状態を監視し、試料の位置ずれの発生を予防し不良品発生を低減する。【解決手段】 真空処理室12内で基板17を処理するとき、基板を試料台14a 上に静電吸着力で保持し、基板・試料台間の隙間18に伝熱ガスを供給するようにされた静電吸着ホルダに設けられ、伝熱ガスを流す通路21に真空計24を設け、真空計で計測された圧力が設定値より小さくなったときにのみガス供給部23から与えられる伝熱ガスを上記隙間に供給するマスフローコントローラ22と制御手段31を設け、伝熱ガスの供給量が設定値より大きくなったとき静電吸着力が低下したと判断する判定手段32を設けた。

請求項（抜粋）：

真空処理室内で試料を処理するとき、前記試料を試料台上に静電吸着力で保持し、前記試料と前記試料台の間の隙間に伝熱ガスを流すように構成した静電吸着ホルダにおいて、前記試料と前記試料台の間の前記隙間の圧力を前記真空処理室内の圧力よりも高くし、前記伝熱ガスが前記隙間から漏れる量を監視して前記静電吸着力を検出したことを特徴とする静電吸着ホルダの吸着力検出方法。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  H01L 21/3065

FI (3件)：

H01L 21/68 R ,  B23Q 3/15 D ,  H01L 21/302 C

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 静電吸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-343031   出願人：日本電気株式会社
• 特公平6-022213
  
• 試料台、該試料台のモニタリングシステム及び半導体製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-231769   出願人：住友金属工業株式会社
• 特開平1-321136