特許

J-GLOBAL ID：200903027534892501

研磨用組成物およびそれを用いた研磨方法

発明者： 徳永 隆章
出願人/特許権者： 徳永 隆章
代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-150329
公開番号（公開出願番号）：特開2001-332518
出願日： 2000年05月22日
公開日（公表日）： 2001年11月30日
要約：

【要約】【課題】 各種半導体デバイス表面、磁気ディスク表面等のとくに金属表面の鏡面研磨時に、コロイダルシリカの安定性が高く、研磨特性が長期に安定であり、高精度、高品質の鏡面が得られる研磨用組成物およびそれを用いた研磨方法を提供すること。【解決手段】 水、カチオン性コロイダルシリカ、および金属の硝酸塩を含有することを特徴とする研磨用組成物。

請求項（抜粋）：

水、カチオン性コロイダルシリカ、および金属の硝酸塩を含有することを特徴とする研磨用組成物。

IPC (5件)：

H01L 21/304 622 ,  B24B 37/00 ,  B24B 57/02 ,  C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14

FI (5件)：

H01L 21/304 622 D ,  B24B 37/00 H ,  B24B 57/02 ,  C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z

Fターム (5件)：

3C047FF08 ,  3C047GG15 ,  3C058AA07 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17

引用特許：

審査官引用 (2件)

• NiPめっきしたディスクを研磨するためのコロイドシリカスラリー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-316106   出願人：コマッグ・インコーポレイテッド
• 研磨性スラリー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-010196   出願人：プラクスエアーエスティーテクノロジーインコーポレーテッド