NiPめっきしたディスクを研磨するためのコロイドシリカスラリー

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村稔 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-316106
公開番号（公開出願番号）：特開平11-246849
出願日： 1998年11月06日
公開日（公表日）： 1999年09月14日
要約：

【要約】【課題】コロイドスラリーの物質除去速度を増加させ、研磨傷の数を減少させ、同時に良好な研磨表面仕上げを提供する配合物を製造する。【解決手段】水性コロイド研磨材スラリーに金属硝酸塩を含ませる。

請求項（抜粋）：

研磨工程に使用するコロイドスラリーであって、製品を磨耗により研磨するための水性コロイドシリカ研磨材及び前記スラリーを用いての化学-機械研磨中の研磨速度を増加させるための金属硝酸塩を含むことを特徴とするスラリー。

IPC (2件)：

C09K 3/14 550 , B24B 37/00

FI (2件)：

C09K 3/14 550 D , B24B 37/00 H

引用特許：

審査官引用 (3件)

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