特許

J-GLOBAL ID：200903027545614490

基板洗浄装置および基板洗浄方法

発明者： 芳谷 光明 ,  木瀬 一夫 ,  伊丹 直滋 ,  渡邉 和廣
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社 ,  富士通株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-333121
公開番号（公開出願番号）：特開平9-171986
出願日： 1995年12月21日
公開日（公表日）： 1997年06月30日
要約：

【要約】【課題】 基板と洗浄機構とを相対的に並進させて基板の洗浄を行うにあたって、非接触で洗浄能力が高い基板洗浄装置を提供すること。【解決手段】 超音波洗浄ノズル10と高圧洗浄ノズル20とがひとつの洗浄装置内に併設されている。超音波洗浄ノズル10は、スリット13から超音波洗浄液Fをカーテン状に吐出し、高圧洗浄ノズル20は基板1に吐出された超音波洗浄液Fに向けて高圧洗浄ジェットJを噴出する。基板1はX方向に並進搬送されつつ洗浄され、超音波洗浄で除去された異物だけでなく、高圧洗浄ジェットJによって除去された異物も超音波洗浄液Fの流れによって基板1の外部に排出される。

請求項（抜粋）：

基板を洗浄するための洗浄手段と前記基板とを相対的に並進させる並進手段とを備え、前記並進を行いつつ前記洗浄手段によって前記基板の洗浄走査を行う装置であって、前記洗浄手段が、(a) 基板に向けて液体を吐出しつつ前記液体に超音波を発射して前記基板の超音波洗浄を行う超音波洗浄手段と、(b) 前記超音波洗浄手段とは異なる位置に設けられ、高圧液体を前記基板に向けて噴出して前記基板の高圧洗浄を行う高圧洗浄手段と、を備え、前記基板に対して前記超音波洗浄と前記高圧洗浄との複合洗浄を行うことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/12

FI (4件)：

H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 M ,  B08B 3/02 B ,  B08B 3/12 Z

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平1-151975
  
• 被洗浄基板の洗浄方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-143409   出願人：株式会社東芝, 株式会社芝浦製作所
• 特開平1-105376