特許
J-GLOBAL ID：200903027560222476
光触媒反応装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田澤 博昭 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-351537
公開番号（公開出願番号）：特開平10-192696
出願日： 1996年12月27日
公開日（公表日）： 1998年07月28日
要約：
【要約】【課題】 光触媒固定板が反応槽の内周壁に設けられていたので、光触媒に強い光を当てるため反応槽の内径を小さくすると反応面積も小さくなり、一方、反応面積を大きくするため反応槽の内径を大きくすると光触媒に当たる光が弱くなるなど処理効率が低下する課題があった。【解決手段】 光源と光触媒固定板とを反応槽内に備え、前記光触媒固定板を前記光源とほぼ直交平面をなす位置に配設した。
請求項（抜粋）：
光源と光触媒固定板とを反応槽内に備え、被処理流体を導入し、該被処理流体中の不純物を分解、除去して排出する光触媒反応装置において、前記光触媒固定板を前記光源とほぼ直交平面をなす位置に配設したことを特徴とする光触媒反応装置。
IPC (4件)：
B01J 19/24
, B01J 16/00
, B01J 35/02 ZAB
, C02F 1/32
B01J 19/24 A
, B01J 16/00
, B01J 35/02 ZAB J
, C02F 1/32
