特許

J-GLOBAL ID：200903027575457321

反応炉洗浄装置

発明者： 遠藤 俊秀 ,  手計 昌之 ,  石井 敏由記 ,  坂口 昌晃
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 青山 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-011808
公開番号（公開出願番号）：特開2009-196882
出願日： 2009年01月22日
公開日（公表日）： 2009年09月03日
要約：

【課題】多結晶シリコン反応炉の内壁面の付着物を容易かつ確実に除去することができる反応炉洗浄装置を提供する。【解決手段】多結晶シリコンを生成する反応炉70の二重構造の炉壁の内壁面72を洗浄する反応炉洗浄装置1において、水平状態に設置された略円盤形状の受け皿10に排液口12を形成するとともに、受け皿10の外周部に反応炉70の開口縁部が設置されるフランジ部13を形成し、受け皿10の中央部に形成した貫通孔11に、回転自在かつ鉛直方向に移動自在にシャフト20を設け、シャフト20の上端部に、三次元方向に洗浄水を高圧噴射するノズル装置50を設け、シャフト20の受け皿10よりも下方部分に、該シャフト20を回転させるとともに鉛直方向に移動させる駆動機構30を設け、反応炉70の炉壁70に、その外壁70Aと内壁70Bの間にスチームを供給するためのスチーム配管62を設ける。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

多結晶シリコンを生成する反応炉の二重構造をなす炉壁の内壁面を洗浄する反応炉洗浄装置であって、 水平状態に設置された略円盤形状の受け皿に排液口が形成されるとともに、前記受け皿の外周部に、前記反応炉の炉壁の下端開口縁部が設置されるフランジ部が形成され、 前記受け皿の中央部に形成した貫通孔に、回転自在かつ鉛直方向に移動自在にシャフトが設けられ、 前記シャフトの上端部に、三次元方向に洗浄水を高圧噴射するノズル装置が設けられるとともに、前記シャフトの前記受け皿よりも下方部分に、該シャフトを回転させるとともに鉛直方向に移動させる駆動機構が設けられ、 前記反応炉の炉壁に、その外壁と内壁の間にスチームを供給するためのスチーム配管が設けられたことを特徴とする反応炉洗浄装置。

IPC (3件)：

C01B 33/02 ,  B08B 3/02 ,  C01B 33/035

FI (3件)：

C01B33/02 Z ,  B08B3/02 D ,  C01B33/035

Fターム (14件)：

3B201AA34 ,  3B201AB53 ,  3B201BB23 ,  3B201BB34 ,  3B201BB43 ,  3B201BB46 ,  3B201BB90 ,  3B201CB01 ,  3B201CC11 ,  3B201CD22 ,  3B201CD36 ,  4G072AA01 ,  4G072BB12 ,  4G072GG04

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭56-114815
  
• 特開昭63-296882
  
• 昇降型洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-086689   出願人：株式会社キット