特許

J-GLOBAL ID：200903027584344610

高度浄水処理システム

発明者： 神原 左千夫 ,  大隈 啓二 ,  藤田 良成
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-149967
公開番号（公開出願番号）：特開平9-001167
出願日： 1995年06月16日
公開日（公表日）： 1997年01月07日
要約：

【要約】【目的】オゾン接触槽で処理された被処理水中に含まれる溶存オゾンが、生物活性炭塔における処理に悪影響を及ぼすのを防止する。【構成】オゾン接触槽1と生物活性炭塔2とを具備する高度浄水処理システムにおいて、オゾン接触槽の後段で生物活性炭塔の前段に空気散気管8を備えた曝気槽6を設け、該曝気槽に設置された空気散気管の下方底部の被処理水の溶存オゾン濃度に基づいて空気散気管8に送る空気の風量を制御する曝気風量制御装置20を設けた。【効果】オゾン処理で残留する溶存オゾンが、生物活性炭処理塔における処理に悪影響を及ぼすのを防止できた。

請求項（抜粋）：

オゾン接触槽と生物活性炭塔とを具備して被処理水を処理する高度浄水処理システムにおいて、前記オゾン接触槽の後段で前記生物活性炭塔の前段に空気散気管を備えた曝気槽を設け、該曝気槽に設置された前記空気散気管の下方底部の被処理水の溶存オゾン濃度に基づいて前記空気散気管に送る空気の風量を制御する曝気風量制御手段を設けたことを特徴とする高度浄水処理システム。

IPC (5件)：

C02F 1/78 ,  C02F 3/06 ZAB ,  C02F 9/00 501 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 503

FI (5件)：

C02F 1/78 ,  C02F 3/06 ZAB ,  C02F 9/00 501 B ,  C02F 9/00 502 R ,  C02F 9/00 503 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 高度浄水システムにおけるオゾン接触槽
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-228103   出願人：株式会社明電舎
• 特開昭60-187392
  
• 特開昭61-068107
  
• 特開昭63-156598