特許

J-GLOBAL ID：200903027665427510

感放射線性樹脂組成物

発明者： 宮島 史尚 ,  宮路 正昭 ,  永井 智樹 ,  稲葉 潤一郎 ,  江幡 敏
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (1件)： 福沢 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-113660
公開番号（公開出願番号）：特開2004-317907
出願日： 2003年04月18日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：

【課題】感度および解像度に優れ、粗密依存性が小さく、多様な微細パターンを高精度にかつ安定して形成できる感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】(A)2-t-ブトキシカルボニルメトキシフェニルジフェニルスルホニウム2-(ビシクロ [2.2.1] ヘプタン-2-イル)-1,1,2,2-テトラフルオロエタンスルホネート、2-t-ブトキシカルボニルメトキシフェニルジフェニルスルホニウムノナフルオロ-n-ブタンスルホネート等に代表される感放射線性酸発生剤、並びに(B)ヒドロキシスチレン系繰り返し単位とヒドロキシスチレンのフェノール性水酸基が1-エトキシエトキシ基等の酸解離性アセタール基で保護された繰り返し単位および/またはヒドロキシスチレンのフェノール性水酸基がt-ブチル基等の他の酸解離性基で保護された繰り返し単位とを有する樹脂を含有する。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)下記式(1-a)で表されるカチオンと下記式(1-b)で表されるアニオンとを有するスルホニウム化合物からなる感放射線性酸発生剤

IPC (3件)：

G03F7/004 ,  C08F12/04 ,  G03F7/039

FI (3件)：

G03F7/004 503A ,  C08F12/04 ,  G03F7/039 601

Fターム (31件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100BA02Q ,  4J100BA02R ,  4J100BA03P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA04R ,  4J100BA05Q ,  4J100BA06Q ,  4J100BA20R ,  4J100BA22R ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-186167   出願人：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社