表面処理用ガス供給装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-249105
公開番号（公開出願番号）：特開2004-087952
出願日： 2002年08月28日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：

【課題】処理用混合ガスの表面処理装置への供給精度を確実に高く維持できるガス供給装置を提供する。【解決手段】ガス供給装置20の恒温槽21(装置本体)内に、気化されるべき水(第1原料)を溜めたタンク22と、このタンク22からの水蒸気を計量して所望流量にするMFC23(第1計量手段)と、このMFC23から延びる計量後蒸気管25(第1原料ガス路)の全長域とを収容する。管25は、プロセスガス管26(第2原料ガス路)と合流され、合流後の混合ガス管27が導入管13を介して表面処理装置10に連なっている。槽21の内部は、水の気化温度より高温に保持されている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

容器状の装置本体と、気化されるべき液相の第1原料を溜めたタンクと、このタンクから気化した第1原料ガスを計量して所望流量にする第1計量手段と、この第1計量手段から延びる第1原料ガス路と、第2原料源からの第2原料ガスを計量して所望流量にする第2計量手段と、この第2計量手段から延び、上記第1原料ガス路と合流される第2原料ガス路と、これら原料ガス路の合流部から表面処理装置へ延びる混合ガス路とを備え、上記タンク、及び上記第1計量手段、並びに上記第1原料ガス路の上記合流部を含む全長域が、上記装置本体に収容され、この装置本体の内部が、上記第1原料の気化温度より高温に保持されていることを特徴とする表面処理用ガス供給装置。

IPC (3件)：

H01L21/3065 , C23C16/455 , H01L21/205

FI (3件)：

H01L21/302 101G , C23C16/455 , H01L21/205

Fターム (20件)：

4K030CA04 , 4K030EA01 , 4K030EA03 , 4K030FA01 , 4K030JA09 , 4K030KA25 , 5F004AA01 , 5F004BB28 , 5F004BC03 , 5F004CA02 , 5F004DA00 , 5F004DA01 , 5F045AA08 , 5F045BB01 , 5F045BB08 , 5F045EC09 , 5F045EE02 , 5F045EE04 , 5F045EK05 , 5F045GB07

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開平2-190473
高温気体定流量発生装置およびプロセス装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-164371 出願人：株式会社日立製作所

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