特許
J-GLOBAL ID：200903027760563464
膜厚測定装置および膜厚測定方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 詔男 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-351928
公開番号（公開出願番号）：特開2000-180143
出願日： 1998年12月10日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：
【要約】【課題】 薄膜の膜厚、特に極薄薄膜の膜厚を正確に測定でき、また、アスペクトレシオの大きなコンタクトホール内部にある薄膜の膜厚も測定でき、複数の膜からなる多層膜の最表面の膜厚も測定できる膜厚測定装置および膜厚測定方法をを提供する。【解決手段】 基板上の薄膜に電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、前記薄膜を貫通して前記基板に到達した貫通電流を捕集するための前記基板4に接触して配置された電極と、該電極を介して前記貫通電流を検出する電流検出手段と、前記薄膜と同一材料の標準試料についての貫通電流と膜厚との相関データから前記電流検出手段によって検出された前記貫通電流を前記薄膜の膜厚に換算する膜厚換算手段とを備えたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
基板上の薄膜に電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、 前記薄膜を貫通して前記基板に到達した貫通電流を捕集するための前記基板に接触して配置された電極と、該電極を介して前記貫通電流を検出する電流検出手段と、前記薄膜と同一材料の標準試料についての貫通電流と膜厚との相関データから前記電流検出手段によって検出された前記貫通電流を前記薄膜の膜厚に換算する膜厚換算手段とを備えたことを特徴とする膜厚測定装置。
Fターム (13件)：
2F067AA27
, 2F067BB17
, 2F067CC17
, 2F067DD10
, 2F067HH06
, 2F067JJ05
, 2F067KK00
, 2F067KK04
, 2F067LL02
, 2F067QQ03
, 2F067RR12
, 2F067RR24
, 2F067RR29
