特許
J-GLOBAL ID:200903027791919046

分散制御光ファイバ及びその大口径母材の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-221419
公開番号(公開出願番号):特開2001-066439
出願日: 2000年07月21日
公開日(公表日): 2001年03月16日
要約:
【要約】【課題】 分散制御光ファイバ及び大口径母材の製造方法を提供する。【解決手段】 分散制御光ファイバ300は、SiO2、GeO2、P2O5の3成分系から組成されたコア310と、SiO2、GeO2、P2O5及びフロンの4成分系から組成されたクラッド320とを含めてなる。また、分散制御光ファイバの大口径母材の製造方法は、蒸着チューブの内周面にSiO2、GeO2、P2O5及びフロンを蒸着させてクラッド層を形成するクラッド蒸着過程と、クラッド蒸着過程を通じて蒸着されたクラッド層の内周面にSiO2、GeO2、P2O5を蒸着させてコア層を形成するコア蒸着過程とを含めてなることを特徴とする。
請求項(抜粋):
分散制御光ファイバにおいて、SiO2、GeO2、P2O5の3成分系から組成されたコアと、SiO2、GeO2、P2O5及びフロンの4成分系から組成されたクラッドと、を含めてなることを特徴とする分散制御光ファイバ。
IPC (4件):
G02B 6/00 376 ,  G02B 6/00 356 ,  C03B 37/018 ,  G02B 6/22
FI (4件):
G02B 6/00 376 A ,  G02B 6/00 356 A ,  C03B 37/018 B ,  G02B 6/22
引用特許:
審査官引用 (7件)
  • 特開昭57-011848
  • 特開昭63-217310
  • 特開昭60-050503
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