特許
J-GLOBAL ID：200903027836499590

超純水製造システムの洗浄殺菌方法

発明者：
奥村 正剛

奥村 正剛 について


出願人/特許権者：
栗田工業株式会社

栗田工業株式会社 について


代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-395396
公開番号（公開出願番号）：特開2002-192162
出願日： 2000年12月26日
公開日（公表日）： 2002年07月10日
要約：
【要約】【課題】 超純水製造システムの微粒子除去のための洗浄及び殺菌を短時間で効率的に行う。【解決手段】 超純水製造装置、超純水のユースポイント、並びに前記超純水製造装置と前記ユースポイントとを接続する超純水の流路からなる超純水製造システムの少なくとも一部を、塩基性化合物を含む洗浄液で洗浄した後、該塩基性化合物の少なくとも一部が残存する状態で洗浄液中に過酸化水素を注入する。
請求項（抜粋）：
超純水製造装置、超純水のユースポイント、並びに前記超純水製造装置と前記ユースポイントとを接続する超純水の流路からなる超純水製造システムの洗浄殺菌方法において、塩基性化合物を含む洗浄液で前記超純水製造システムの少なくとも一部を洗浄した後、該塩基性化合物の少なくとも一部が残存する状態で洗浄液中に過酸化水素を注入することを特徴とする超純水製造システムの洗浄方法。
IPC (10件)：
C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/50 ,  B08B 3/08 ,  B08B 3/10 ,  B08B 9/02 ,  C02F 1/72
FI (10件)：
C02F 1/50 531 Q ,  C02F 1/50 510 B ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 550 H ,  C02F 1/50 560 C ,  C02F 1/50 560 E ,  B08B 3/08 Z ,  B08B 3/10 Z ,  C02F 1/72 Z ,  B08B 9/02 Z
Fターム (19件)：
3B116AA46 ,  3B116AA47 ,  3B116AA48 ,  3B116BB03 ,  3B116BB82 ,  3B116CD22 ,  3B201AA46 ,  3B201AA47 ,  3B201AA48 ,  3B201BB05 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201CD22 ,  4D050AA05 ,  4D050AB06 ,  4D050BB09 ,  4D050BC10 ,  4D050BD06 ,  4D050CA13
引用特許：
審査官引用 (4件)
  • 殺菌方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-227158   出願人：栗田工業株式会社
  • 洗浄殺菌方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-048734   出願人：ホシザキ電機株式会社
  • 超純水製造システムの洗浄方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-133984   出願人：栗田工業株式会社
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