露光装置とデバイス製造方法、ならびに該露光装置の光学素子クリーニング方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：丸島儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-023278
公開番号（公開出願番号）：特開平11-224839
出願日： 1998年02月04日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：

【要約】【課題】有機分子による光学素子の汚染問題を簡単かつ効果的に解決した露光装置を提供すること。【解決手段】エキシマレーザ等の紫外線あるいはX線の露光ビームを基板に照射して露光を行なう露光装置の光学素子をクリーニングする方法であって、該光学素子が置かれた空間に微量の酸素を含む不活性ガスを供給して、該露光ビームを照射することで該空間内にてオゾン生成させ、該発生したオゾンと該露光ビームの照射による光化学反応によって該光学部材に付着した有機化合物を除去する。

請求項（抜粋）：

露光ビームを生成する光源と、該露光ビームを基板に照射して露光を行なうための閉空間を有する光学系を備えた露光装置において、該光学系の閉空間に不活性ガスを供給する手段と、酸素もしくはクリーンエアを供給する手段を設け、該閉空間に不活性ガスと酸素を供給し得るようにしたことを設けたことをことを特徴とする露光装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521 , H01L 21/304 645

FI (7件)：

H01L 21/30 515 D , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521 , H01L 21/304 645 Z , H01L 21/30 516 F , H01L 21/30 531 A

引用特許：

審査官引用 (8件)

投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-045796 出願人：株式会社ニコン
特開平1-265513
特開昭61-051150

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