特許
J-GLOBAL ID:200903027868767961
シリコンの製造方法およびシリコン製造装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
鈴木 俊一郎
, 牧村 浩次
, 高畑 ちより
, 鈴木 亨
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-183701
公開番号(公開出願番号):特開2006-008423
出願日: 2004年06月22日
公開日(公表日): 2006年01月12日
要約:
【課題】 シリコンの析出状態を目視的に監視できないシリコン製造装置においても、シリコンの析出量、析出状態および溶融落下状態などを間接的に把握し、効率よく多結晶シリコンを製造する方法および該方法に用いられるシリコン製造装置を提供すること。 【解決手段】 本発明に係るシリコンの製造方法は、加熱したカーボン製筒状反応容器内にクロロシラン類および水素を供給し、該筒状反応容器の内表面にシリコンを析出させ、析出したシリコンの一部または全部を溶融することにより、該筒状反応容器からシリコンを落下させて回収するに際し、該筒状反応容器単独の重量を測定することにより、該筒状反応容器のシリコン付着量をモニタリングし、該シリコン付着量に基づいて運転条件を制御することを特徴とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
加熱したカーボン製筒状反応容器内にクロロシラン類および水素を供給し、該筒状反応容器の内表面にシリコンを析出させ、析出したシリコンの一部または全部を溶融することにより、該筒状反応容器からシリコンを落下させて回収するに際し、
該筒状反応容器単独の重量を測定することにより、該筒状反応容器のシリコン付着量をモニタリングし、該シリコン付着量に基づいて運転条件を制御することを特徴とするシリコンの製造方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (11件):
4G072AA01
, 4G072BB12
, 4G072GG03
, 4G072GG04
, 4G072HH09
, 4G072JJ01
, 4G072MM38
, 4G072NN13
, 4G072QQ16
, 4G072UU01
, 4G072UU02
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
シリコンの製造方法
公報種別:再公表公報
出願番号:JP2002005612
出願人:株式会社トクヤマ
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