特許
J-GLOBAL ID:200903027906458030
放射線源、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (7件):
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
, 浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 岩本 行夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-211722
公開番号(公開出願番号):特開2007-019031
出願日: 2006年08月03日
公開日(公表日): 2007年01月25日
要約:
【課題】放射線への電気エネルギーの変換効率を改善する。【解決手段】アノードおよびカソードを備え、該アノードおよびカソードが、該アノードとカソードとの間の空間内の物質内で放電を行い、電磁放射線を生成するためにプラズマを形成するように構成され、配置されている放射線源の変換効率を改善するために、上記放射線源ユニットは、インダクタンスが低くなるように、また最小のプラズマで動作するように構成される。 熱の消散を改善するために、流体循環システムが、その気相および液相の両方で流体を使用することにより上記放射線源空間およびウィック内に形成される。 汚染物がリソグラフィ投影装置に入り込むのを防止するために、放射線源ユニットは、汚染物の生成を最低限度に抑えるように構成され、放出される放射線と干渉を起こさないで、汚染物を捕捉するためにトラップが使用される。【選択図】図2
請求項(抜粋):
放射線源であって、アノードおよびカソードを備え、該アノードおよびカソードが、該アノードとカソードとの間の放電空間内の物質内で放電を行い、電磁放射線を生成するためにプラズマを形成するように構成され、配置されていて、さらに、前記電磁放射線が放出される前記アノードおよびカソードのうちの一方に設けられている開口部を備え、
前記開口部が、前記放射線に対して前記開口部を実質的に開放状態に維持するが、前記開口部を電気的に実質的に閉鎖するように配置された複数の導電構造を備えることを特徴とする放射線源。
IPC (4件):
H05G 2/00
, H05G 1/02
, G21K 1/00
, H01L 21/027
FI (4件):
H05G1/00 K
, H05G1/02 P
, G21K1/00 X
, H01L21/30 531S
Fターム (7件):
4C092AA04
, 4C092AA15
, 4C092AB21
, 4C092AC09
, 4C092BD17
, 4C092BD18
, 5F046GC03
引用特許:
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