特許
J-GLOBAL ID：200903027942456256
基材又は基板表面の汚染防止方法と装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉嶺 桂 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-031231
公開番号（公開出願番号）：特開平9-205046
出願日： 1996年01月26日
公開日（公表日）： 1997年08月05日
要約：
【要約】【課題】 基材及び基板表面の接触角を増大させる非メタン炭化水素を効果的、かつ簡便に除去或は接触角増加に関与しない物質へ変換することができる汚染防止方法と装置を提供する。【解決手段】 基材又は基板表面の汚染を防止する装置において、該基材又は基板と接触する気体7を非メタン炭化水素濃度を0.2ppm以下に浄化する、光源1と光触媒2とからなる浄化装置Aと該装置で浄化された気体を基材又は基板4表面と接触させる手段とを有することとしたものであり、前記浄化装置は、光源1の表面に薄膜状に光触媒2を形成して一体化装置としてもよいし、前記浄化装置を密閉空間に設け、該空間内に空間容積1m3 当り、50〜50000cm2 の表面積の光触媒を設けてもよい。
請求項（抜粋）：
基材又は基板表面の汚染を防止する方法において、該基材又は基板と接触する少なくとも炭化水素を含む気体を、光が照射されている光触媒と接触させて、非メタン炭化水素濃度を0.2ppm以下に浄化した後、該気体を基材又は基板表面に暴露させることを特徴とする基材又は基板表面の汚染防止方法。
引用特許：
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