特許

J-GLOBAL ID：200903027948086248

レーザー処理装置

発明者： 山▲崎▼ 岩男 ,  井沢 良弘
出願人/特許権者： ヤーマン株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-120259
公開番号（公開出願番号）：特開2002-306230
出願日： 2001年04月18日
公開日（公表日）： 2002年10月22日
要約：

【要約】【課題】 装置の構造を複雑化することなく美肌、痩身、脱毛、育毛などの複数のトリートメントを一台で行え、しかも誤操作する虞れのないレーザー処理装置を提供する。【解決手段】 レーザー処理装置のヘッド部12の先端に装着するアタッチメント20としてレーザー光線の光軸方向の寸法の異なる複数のアタッチメント20A〜20Dを付随させ、美肌、痩身、脱毛、育毛などの各種トリートメントの中から希望するトリートメントの種類に応じてアタッチメント20A〜20Dを選択して装着し、トリートメントを行う。

請求項（抜粋）：

レーザー光源と前記レーザー光源から発せられたレーザー光を集光するレンズとを備えたレーザー処理装置本体と、前記レーザー処理装置本体の前記レンズの前方に着脱可能に取着され、脱毛、育毛、その他の所望のトリートメントに適する照射エネルギー密度の照射スポットを形成するための前記レンズと前記レーザー光が照射される被照射体との距離を画定する複数のアタッチメントと、を具備するレーザー処理装置。

IPC (3件)：

A45D 26/00 ,  A61B 18/20 ,  A61N 5/06

FI (3件)：

A45D 26/00 G ,  A61N 5/06 E ,  A61B 17/36 350

Fターム (17件)：

4C026AA01 ,  4C026BB08 ,  4C026FF01 ,  4C026FF22 ,  4C026FF23 ,  4C026FF33 ,  4C026FF36 ,  4C026FF43 ,  4C082RA01 ,  4C082RC09 ,  4C082RE01 ,  4C082RE22 ,  4C082RE23 ,  4C082RE34 ,  4C082RE36 ,  4C082RE43 ,  4C082RE44

引用特許：

審査官引用 (4件)

• レーザ光照射プローブ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-131891   出願人：ヤーマン株式会社
• 焦点移動式レーザ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-250556   出願人：ヤーマン株式会社
• レーザ治療装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-000844   出願人：株式会社ニデック
• 特開平4-204810