特許
J-GLOBAL ID：200903028013975873
有機EL装置の製造方法及び有機EL装置並びに電子機器
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
上柳 雅誉
, 藤綱 英吉
, 須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-098264
公開番号（公開出願番号）：特開2004-303698
出願日： 2003年04月01日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：
【課題】確実にセパレータ形成領域B内に第2電極の材料を蒸着させることによって第2電極同士が接触することにより生じる短絡を防止する。【解決手段】開口部の端部X1a,X1bがカソードセパレータ形成領域Bよりセパレータの高さ以上だけ基板の中心寄りに位置するように設定されたマスクXを介して第2電極の材料を基板上に蒸着させる。【選択図】 図12
請求項（抜粋）：
電極間に有機機能層が形成されてなる有機EL装置の製造方法であって、
複数の第1電極を基板上に形成する第1電極形成工程と、
第1電極と交差する方向に絶縁物質からなるセパレータを形成するセパレータ形成工程と、
第1電極上に有機機能層を形成する有機機能層形成工程と、
第2電極をセパレータ間に形成する第2電極形成工程と、
第1電極、有機機能層、セパレータ及び第2電極が形成された基板を封止部によって封止する封止工程と、
を有し、
第2電極形成工程において、第2電極の両端部がセパレータの両端部より外側に突出しないように前記第2電極を形成する
ことを特徴とする有機EL装置の製造方法。
IPC (5件)：
H05B33/10
, H05B33/06
, H05B33/12
, H05B33/14
, H05B33/22
H05B33/10
, H05B33/06
, H05B33/12 B
, H05B33/14 A
, H05B33/22 Z
3K007AB08
, 3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007BB01
, 3K007CC05
, 3K007DB03
, 3K007EA00
, 3K007FA01
, 3K007FA02
