特許
J-GLOBAL ID：200903028070295978
位置測定装置及びこれを使用した測量機
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
和泉 雄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-293104
公開番号（公開出願番号）：特開2000-105119
出願日： 1998年09月29日
公開日（公表日）： 2000年04月11日
要約：
【要約】[目的] 本発明は、自由表面を有する液体部材を利用した位置測定装置に係わり、特に、測量機の傾斜センサに最適であり、ハーフミラーを、液体部材と受光光学系の光路上に配置することにより、コンパクトに構成することのできる位置測定装置及びこれを使用した測量機を提供することを目的とする。[構成] 本発明は、2次元の位置を示す様に配列して暗視野パターンを形成し、第1の光学系が、暗視野パターンからの光を2方向に分離し、第1の集光素子が、第1の光学系からの光を第1の方向に向けて集光させ、第2の集光素子が、第1の光学系からの光を、第1の方向と異なる第2の方向に向けて集光させ、第1の受光素子が集光されたパターン像を受光し、第2の受光素子が集光されたパターン像を受光し、演算処理手段が、集光素子の受光信号に基づき、パターン上の位置を演算し、暗視野パターンは、集光素子の長手方向に対して、それぞれ等ピッチに配置され、かつ、直交する方向から見たパターンの幅が同じとなる様に配置している。
請求項（抜粋）：
2次元の位置を示す様に配列された暗視野パターンと、この暗視野パターンからの光を2方向に分離するための第1の光学系と、この第1の光学系からの光を第1の方向に向けて集光させるための第1の集光素子と、前記第1の光学系からの光を、前記第1の方向と異なる第2の方向に向けて集光させるための第2の集光素子と、前記第1の集光素子により集光された前記パターン像を受光するための第1の受光素子と、前記第2の集光素子により集光された前記パターン像を受光するための第2の受光素子と、この第1の集光素子と第2の集光素子との受光信号に基づき、前記パターン上の位置を演算するための演算処理手段とからなり、前記暗視野パターンは、前記第1の集光素子及び前記第2の集光素子の長手方向に対して、それぞれ等ピッチに配置され、かつ、直交する方向から見たパターンの幅が同じとなる様に配置された2次元パターンから形成されている位置測定装置。
IPC (3件)：
G01C 15/00
, G01C 9/06
, G01C 9/18
G01C 15/00 L
, G01C 9/06 A
, G01C 9/18 Z
