特許
J-GLOBAL ID:200903028112519251
スルーホールを有するプリント基板の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-128654
公開番号(公開出願番号):特開平9-312459
出願日: 1996年05月23日
公開日(公表日): 1997年12月02日
要約:
【要約】【課題】製造時に埃の発生や基板表面の傷付の問題がなく、かつスルーホール部に欠陥がなく、しかも精細な回路パターンを有するプリント基板を製造する。【解決手段】スルーホール部を有する基板のスルーホール部に、ポジ型レジストインクを埋め込んだ後、スルーホール部以外の基板表面に付着した不要なポジ型レジストインクを除去するために基板表面に紫外線を照射し現像を行って不要なポジ型レジストインクを除去した後、該基板上に可視光レーザー感光型レジスト層を形成し、該可視光レーザー感光型レジスト層に可視光レーザー光線をパターン状に露光し、現像することを特徴とするプリント基板の製造方法。
請求項(抜粋):
スルーホール部を有する基板のスルーホール部に、ポジ型レジストインクを埋め込んだ後、スルーホール部以外の基板表面に付着した不要なポジ型レジストインクを除去するために基板表面に紫外線を照射し現像を行って不要なポジ型レジストインクを除去した後、該基板上に可視光レーザー感光型レジスト層を形成し、該可視光レーザー感光型レジスト層に可視光レーザー光線をパターン状に露光し、現像することを特徴とするプリント基板の製造方法。
IPC (3件):
H05K 3/06
, G03F 7/26 511
, H05K 3/42 620
FI (3件):
H05K 3/06 E
, G03F 7/26 511
, H05K 3/42 620 A
引用特許: