特許
J-GLOBAL ID:200903028139419062

基板処理装置および基板処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-121523
公開番号(公開出願番号):特開2004-327788
出願日: 2003年04月25日
公開日(公表日): 2004年11月18日
要約:
【課題】装置構成を簡略化させるとともに、オペレータの作業負担を軽減させる。【解決手段】基板処理装置に、薬液配管の開閉状態を調整する開閉バルブ15、エンコーダ18および制御部20を設ける。開閉バルブ15には、制御部20からの制御信号に応じて制御される電動モータ151と、可撓性部材であるダイヤフラム154とを設ける。制御部20は、エンコーダ18によって検出された電動モータ151の駆動位置に応じて、当該電動モータ151の回転方向、回転速度、回転量(駆動位置)を制御する。特に、基板処理装置の待機中において、蓋部154aと筐体150とが密着する位置よりもわずかにダイヤフラム154を(+Z)方向に移動させた位置となるように、自動的に電動モータ151を制御する。これにより、待機中の基板処理装置において、純水のスローリークが行われる。【選択図】 図6
請求項(抜粋):
基板に対して処理液による処理を行う基板処理装置であって、 基板を保持する保持手段と、 前記処理液を吐出するノズルと、 前記ノズルに対して前記処理液を導く薬液配管と、 前記薬液配管を介して前記ノズルに前記処理液を送液する送液手段と、 電動モータによって遮断部材の状態を変更することにより、前記薬液配管の開閉状態を調整する開閉手段と、 前記電動モータを制御する制御手段と、 を備え、 前記制御手段が、 前記電動モータの駆動位置を、前記処理液による処理を行う際の第1駆動位置と、前記薬液配管を閉鎖状態にする第2駆動位置との他に、前記第1駆動位置と前記第2駆動位置との間の第3駆動位置においても保持可能であることを特徴とする基板処理装置。
IPC (6件):
H01L21/304 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  B05D1/40 ,  B08B3/02 ,  H01L21/027
FI (6件):
H01L21/304 648K ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  B05D1/40 A ,  B08B3/02 A ,  H01L21/30 569F
Fターム (37件):
3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB33 ,  3B201BB21 ,  3B201BB62 ,  3B201BB93 ,  3B201BB98 ,  3B201CD42 ,  3B201CD43 ,  4D075AC06 ,  4D075AC64 ,  4D075AC79 ,  4D075AC84 ,  4D075AC94 ,  4D075BB65Y ,  4D075BB79Y ,  4D075CA47 ,  4D075DA06 ,  4D075DA08 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075DC24 ,  4D075EA05 ,  4D075EA60 ,  4F042AA06 ,  4F042AA07 ,  4F042BA08 ,  4F042CB08 ,  4F042DA01 ,  4F042EB09 ,  4F042EB17 ,  5F046JA02 ,  5F046JA03 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04 ,  5F046LA14
引用特許:
審査官引用 (5件)
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