基板洗浄装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤村元彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-059895
公開番号（公開出願番号）：特開平11-260783
出願日： 1998年03月11日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：

【要約】【課題】基板に対する洗浄ブラシの押し込み量の設定に当って、その基準となる洗浄ブラシの基準位置を容易に確定でき、作業者の負担を軽減し、基板の洗浄処理品質の向上が達成できるような基板洗浄装置を提供する。【解決手段】基板洗浄装置は、洗浄すべき基板2を保持するホルダ1と、洗浄ブラシ7を保持しこれを基板の主面の法線方向に移動させかつ基板の主面に平行な方向に移動させて基板に対する洗浄ブラシの相対的位置を定める位置決め機構4,21を有している。この基板洗浄装置は、さらに、基板の主面の存在する平面Pにおいて基板から離れて配置され平面における洗浄ブラシの有無を検知する検知手段16,17を備える。

請求項（抜粋）：

洗浄すべき基板を保持するホルダと、洗浄ブラシを保持しこれを前記基板の主面の法線方向に移動させかつ前記基板の主面に平行な方向に移動させて前記基板に対する前記洗浄ブラシの相対的位置を定める位置決め機構と、を備えた基板洗浄装置であって、前記基板の主面に対して所定の位置関係にある平面において前記基板から離れて配置され前記平面における前記洗浄ブラシの有無を検知しかつ検知結果を出力する検知手段を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 644 , B08B 1/04

FI (2件)：

H01L 21/304 644 B , B08B 1/04

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭59-193029
ブラシ洗浄装置およびブラシ洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-235053 出願人：芝浦メカトロニクス株式会社
基板洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-076523 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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