特許
J-GLOBAL ID：200903028140339110

ウエハドライ洗浄装置

発明者：
滝沢 広幸

滝沢 広幸 について

, 
山本 俊二

山本 俊二 について


出願人/特許権者：
株式会社東京カソード研究所

株式会社東京カソード研究所 について


代理人 (1件)： 吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-229025
公開番号（公開出願番号）：特開2001-035826
出願日： 1999年08月13日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：
【要約】【課題】 エキシマランプを用いたウエハドライ洗浄装置において、ウエハの素材の種類によらずウエハを変質させることなく洗浄できるウエハドライ洗浄装置を提供する。【解決手段】 処理チャンバー1にウエハ6を搬入し、処理チャンバー1の内部を真空にするか、窒素又は不活性ガスを充満させ、ランプハウス7のエキシマランプからの紫外光を照射することで、ウエハの素材を変質させることなくドライ洗浄を行うことができる。
請求項（抜粋）：
ドライ洗浄の対象となるウエハを内部に挿入する処理チャンバーと、紫外光を前記処理チャンバーの内部に照射することのできるエキシマランプと、前記処理チャンバー内のガスを排気するガス排気装置と、を有し、前記ガス排気装置は、前記処理チャンバーの内部を真空にすることを特徴とするウエハドライ洗浄装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 645 ,  H01L 21/304 648 ,  B08B 7/00
FI (3件)：
H01L 21/304 645 D ,  H01L 21/304 648 L ,  B08B 7/00
Fターム (5件)：
3B116AA03 ,  3B116AB42 ,  3B116BC01 ,  3B116CD11 ,  3B116CD41
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 表面清浄化方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-001100   出願人：株式会社日立製作所
  • 特開昭63-299234
  • 特開昭63-299234

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