特許

J-GLOBAL ID：200903028144861156

遷移金属配位錯化合物の分離法

発明者： 上野 航 ,  藤井 尊 ,  中村 健一
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-083919
公開番号（公開出願番号）：特開2000-271462
出願日： 1999年03月26日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：

【要約】【課題】 遷移金属の配位錯化合物を触媒として含有する反応生成液から、、生成物の損失及び触媒系の劣化を伴わずに、該触媒を高選択的に分離する方法を提供する。【解決手段】 スルホン化ホスファイト4級アミン塩を配位子として含む遷移金属の配位錯化合物を、シリコーンゴム膜での加圧濾過により、反応生成液から分離する。

請求項（抜粋）：

一般式(I)(PhO)3-n- P-[O-Ph-SO3 - (NR1R2R3R4) + ] n (I)〔式中、Phはフェニル又はフェニレン基を示し、n は1〜3の整数で、R1、R2、R3及びR4は互いに同じか異なり、水素原子、C1〜C30 -アルキル基、C6〜C10 -アリール基又はC6〜C10 -シクロアルキル基を示す〕で表されるスルホン化アリールホスファイトのアルキル及び/又はアリールアミン塩からなる配位子及び/又は該配位子と遷移金属とを含む配位錯化合物を、シリコーンゴム膜での加圧濾過で、これら化合物の有機化合物混合溶液から分離する方法。

IPC (7件)：

B01D 71/70 ,  B01J 38/00 301 ,  C07C 45/50 ,  C07C 45/79 ,  C07C 47/38 ,  C07F 9/145 ,  C07B 61/00 300

FI (7件)：

B01D 71/70 ,  B01J 38/00 301 R ,  C07C 45/50 ,  C07C 45/79 ,  C07C 47/38 ,  C07F 9/145 ,  C07B 61/00 300

Fターム (31件)：

4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006KE07Q ,  4D006MA03 ,  4D006MA06 ,  4D006MA09 ,  4D006MC48X ,  4D006MC58X ,  4D006MC65X ,  4D006MC68X ,  4D006PB13 ,  4D006PB20 ,  4D006PB70 ,  4H006AA02 ,  4H006AC45 ,  4H006AD19 ,  4H006BA18 ,  4H006BA22 ,  4H006BA24 ,  4H006BA46 ,  4H006BA48 ,  4H006BA83 ,  4H006BE20 ,  4H006BE40 ,  4H039CA62 ,  4H039CF10 ,  4H050AA02 ,  4H050AD17 ,  4H050WB13 ,  4H050WB16 ,  4H050WB20

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 膜分離方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平8-533268   出願人：ユニオンカーバイドケミカルズアンドプラスティックステクノロジーコーポレイション
• 加水分解に対して安定な有機ホスフアイトの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平2-402868   出願人：ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト