特許

J-GLOBAL ID：200903028158998863

記録媒体用基板の製造方法および記録媒体用基板並びに記録媒体

発明者： 峠 登 ,  今野 信次 ,  松田 潔 ,  栗和田 健
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-128445
公開番号（公開出願番号）：特開2000-322777
出願日： 1999年05月10日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
要約：

【要約】【構成】 表面粗さ(Ra)0.1nm〜1000nmの基板上に化学修飾剤を含む金属アルコキシド溶液を塗布し、次いでエネルギー線を照射し現像し焼成し、微小凹凸部を有する金属酸化物層を形成することを特徴とする記録媒体用基板の製造方法。【効果】 記録媒体用基板上に微小な凹凸を短時間で且つ安価に製造することが可能となり、又その表面性はニアフィールド方式等の高密度記録媒体にも適した優れたものとなり、工業的に極めて有効である。

請求項（抜粋）：

表面粗さ(Ra)0.1nm〜1000nmの基板上に化学修飾剤を含む金属アルコキシド溶液を塗布し、次いでエネルギー線を照射し現像し焼成し、微小凹凸部を有する金属酸化物層を形成することを特徴とする記録媒体用基板の製造方法。

IPC (6件)：

G11B 7/26 ,  G11B 5/84 ,  G11B 7/24 531 ,  G11B 11/10 511 ,  G11B 11/10 ,  G11B 11/10 541

FI (6件)：

G11B 7/26 ,  G11B 5/84 ,  G11B 7/24 531 Z ,  G11B 11/10 511 A ,  G11B 11/10 511 B ,  G11B 11/10 541 D

Fターム (30件)：

5D029HA04 ,  5D029KA23 ,  5D029KA24 ,  5D029KB11 ,  5D029KB14 ,  5D029KC01 ,  5D029KC17 ,  5D029LB01 ,  5D075EE03 ,  5D075FG17 ,  5D075FH02 ,  5D075GG12 ,  5D075GG16 ,  5D112AA02 ,  5D112AA05 ,  5D112AA07 ,  5D112BA03 ,  5D112BA06 ,  5D112BB01 ,  5D112BC03 ,  5D112BC07 ,  5D112FA04 ,  5D112GA02 ,  5D112GA19 ,  5D112GB02 ,  5D121AA02 ,  5D121GG02 ,  5D121GG11 ,  5D121GG16 ,  5D121GG28

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 酸化物薄膜の作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-320283   出願人：ダイセル化学工業株式会社
• 特公平7-105073
  
• 情報記録媒体用基板に用いる材料、これを用いる基板及びこの基板を用いる磁気ディスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-233936   出願人：ホーヤ株式会社
• 特公平7-105073