特許
J-GLOBAL ID：200903028160252046
パターンの光強度計算方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-022323
公開番号（公開出願番号）：特開2000-221659
出願日： 1999年01月29日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：
【要約】【課題】 マスクの光強度分布をシミュレーションにより計算する方法として、高精度な計算を可能とする一方で、計算速度の向上を図った光強度計算方法を提供する。【解決手段】 ステッパ光学系のカーネルφと固有値αのテーブルを作成する工程(S101)と、前記カーネルのサイズL×Lを2L×2Lに拡張して周期境界とし、かつその拡張部分に0を詰めたものをフーリエ変換した値Φを求める工程(S102)と、計算対象のパターンを点Pを中心として2L×2Lの大きさに切り出す工程(S103)と、前記切り出したパターンを矩形、三角形に分割し、その透過率を周期2Lの解析フーリエの和Fとして計算する工程(S104)と、前記FとΦの積を逆フーリエ変換してコンボリューション積分I’を計算する工程(S105)と、前記I’の周辺のL/2の領域を除いて光強度分布Iを求める工程(S106)と、前記点PをLだけ移動して前記各工程を繰り返して前記パターンの光強度分布を求める(S107,S108)。
請求項（抜粋）：
ステッパ光学系のカーネルの境界を拡張して周期境界としたテーブルのフーリエ変換と、パターンを矩形と三角形のパターン片に分割し、かつ分割した各パターン片の透過率の解析フーリエの和からコンボリューション積分を行って光強度分布を求めることを特徴とするパターンの光強度計算方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 514 Z
2H095BB01
, 5F046AA28
, 5F046BA04
