特許

J-GLOBAL ID：200903028202363102

放射感応性混合物

発明者： 増 田 誠 也 ,  ムニラチュナ、パドマナバン ,  工 藤 隆 範 ,  木 下 義 章 ,  末 廣 なつみ ,  野 崎 優 子 ,  岡 崎 博 ,  クラウス、ユルゲン、シベラ
出願人/特許権者： ヘキストジャパン株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-080519
公開番号（公開出願番号）：特開平7-333844
出願日： 1995年04月05日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：

【要約】【目的】 アルカリ水溶液で現像でき、安定した酸の潜像を放射分解性塩基を用いて制御するという新しい発想に基づいた半導体素子製造用の高感度、高解像度の放射線混合物を提供すること。【構成】 必須成分としてa)水に不溶かつアルカリ水溶液に可溶な結合剤、b1 )酸により開裂し得る結合を少なくとも一つ有する化合物、またはb2 )酸により化合物a)と架橋する結合を少なくとも1つ有する化合物、c)放射により酸を発生する化合物、及びd)塩基性ヨードニウム化合物を含むことを特徴とする放射感応性混合物。

請求項（抜粋）：

必須成分として、a)水に不溶かつアルカリ水溶液に可溶な結合剤、b1 )酸により開裂し得る結合を少なくとも一つ有する化合物、c)放射により酸を発生する化合物、及びd)塩基性ヨードニウム化合物を含むことを特徴とする、ポジ型放射感応性混合物。

IPC (9件)：

G03F 7/029 ,  B01J 39/18 ,  C07C 17/35 ,  C07C 25/18 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (5件)

• ポジ型放射感応性混合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-025753   出願人：ヘキストジャパン株式会社
• 特開平3-153257
  
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-073169   出願人：日本合成ゴム株式会社
• 増感オニウム塩
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-307616   出願人：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
• 特開平3-103854