特許

J-GLOBAL ID：200903092438749540

ポジ型放射感応性混合物

発明者： クラウス、ユルゲン、シベラ ,  工 藤 隆 範 ,  増 田 誠 也 ,  木 下 義 章 ,  末 廣 なつみ ,  ムニラチュナ、パドマナバン ,  岡 崎 博 ,  遠 藤 元 ,  ラルフ、ダメル
出願人/特許権者： ヘキストジャパン株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-025753
公開番号（公開出願番号）：特開平6-242606
出願日： 1993年02月15日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：

【要約】【目的】 アルカリ水溶液で現像でき、安定した酸潜像を有する、半導体構造製造用の、新規な、短波長UV領域において高い放射感応性を有する混合物を提供すること。【構成】 必須成分としてa)水に不溶かつアルカリ水溶液に可溶な結合剤、b)酸により開裂し得る結合を少なくとも一つ有する化合物、c)放射により酸を発生する化合物、及びd)塩基性スルホニウム化合物を含むことを特徴とするポジ型放射感応性混合物。

請求項（抜粋）：

必須成分として、a)水に不溶かつアルカリ水溶液に可溶な結合剤、b)酸により開裂し得る結合を少なくとも一つ有する化合物、c)放射により酸を発生する化合物、及びd)塩基性スルホニウム化合物を含むことを特徴とする、ポジ型放射感応性混合物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 酸不安定基を含有する感放射線混合物およびレリーフパターン、レリーフ画像の作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-061566   出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
• 特開平1-294322
  
• 特開平3-103854
  
• 特開平3-153257