特許
J-GLOBAL ID:200903028206769561

積層構造検査法、X線反射率装置および磁気記録再生装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 作田 康夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-256713
公開番号(公開出願番号):特開2001-083108
出願日: 1999年09月10日
公開日(公表日): 2001年03月30日
要約:
【要約】【課題】2波長以上のX線を用いることにより、精度の高い積層構造評価が可能な検査方法及び反射率装置、並びに本検査法を用いて高精度に成膜制御された磁気抵抗型センサを提供することにある。【解決手段】基板上に2層以上の薄膜を形成した積層体にX線を低角度θで入射させ、積層体からのX線反射率を測定し、該反射率を解析することで積層体の層構造を検査する積層構造検査法において、積層体に入射するX線に単一元素からの2種以上の特性X線を用い、各特性X線で測定した反射率を解析することを特徴とする積層構造検査法およびこの検査法の基づき解析する手段を備えたX線反射率装置。前記検査法で較正した成膜装置で作製された磁気抵抗型センサで構成された磁気記録装置。
請求項(抜粋):
基板上に2層以上の薄膜を形成した積層体にX線を低角度θで入射させ、積層体からのX線反射率を測定し、該反射率を解析することで積層体の層構造を検査する積層構造検査法において、積層体に入射するX線に単一元素からの2種以上の特性X線を用い、各特性X線で測定した反射率を解析することを特徴とする積層構造検査法。
IPC (4件):
G01N 23/207 ,  G01B 15/02 ,  G11B 5/39 ,  G11B 5/455
FI (4件):
G01N 23/207 ,  G01B 15/02 D ,  G11B 5/39 ,  G11B 5/455 Z
Fターム (37件):
2F067AA27 ,  2F067AA67 ,  2F067BB18 ,  2F067EE03 ,  2F067EE04 ,  2F067HH04 ,  2F067HH16 ,  2F067HH17 ,  2F067KK08 ,  2F067MM01 ,  2F067NN04 ,  2F067RR33 ,  2G001AA01 ,  2G001AA09 ,  2G001AA10 ,  2G001AA20 ,  2G001BA15 ,  2G001CA01 ,  2G001EA02 ,  2G001EA09 ,  2G001GA13 ,  2G001JA01 ,  2G001JA05 ,  2G001JA08 ,  2G001JA11 ,  2G001JA20 ,  2G001KA11 ,  2G001KA20 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001NA15 ,  2G001SA02 ,  2G001SA10 ,  5D034BA03 ,  5D034BB01 ,  5D034DA01 ,  5D034DA07
引用特許:
審査官引用 (1件)

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