特許

J-GLOBAL ID：200903083645330887

X線反射率測定装置およびX線反射率測定方法および磁気センサおよび磁気センサの製造方法

発明者： 渦巻 拓也 ,  北出 康博 ,  山岸 亙 ,  押木 満雅 ,  淡路 直樹 ,  古宮 聰
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-213460
公開番号（公開出願番号）：特開平11-051882
出願日： 1997年08月07日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：

【要約】X線を対象物質に当てその反射率によって多層膜の各膜厚,界面を非破壊状態で評価可能な物性測定技術の改良であって、入射X線の波長としてCu(銅)特性X線を採用することで、多層膜をなす各層の物性が近似していても容易に分離識別可能にしたことを特徴とする。さらに、これを磁気ヘッド用スピンバルブに用いることで、性能が安定した高密度磁気ヘッドを製造できる。

請求項（抜粋）：

Cu(銅),Co(コバルト)の吸収端(l=1.381Å,1.608Å)近傍の波長を有するX線を入射X線として用いるX線反射率測定装置。

IPC (3件)：

G01N 23/20 ,  G11B 5/39 ,  G21K 1/06

FI (3件)：

G01N 23/20 ,  G11B 5/39 ,  G21K 1/06 F

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 面内分布測定方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-043946   出願人：株式会社日立製作所
• 全反射X線分析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-000012   出願人：株式会社日立製作所
• X線回折測定方法及びX線回折測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-145226   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭64-054238