ヒ素含有鉱酸の再生方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：木戸一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-200218
公開番号（公開出願番号）：特開2005-041707
出願日： 2003年07月23日
公開日（公表日）： 2005年02月17日
要約：

【課題】ヒ素濃度が1000ppm以下の希薄ヒ素を含有した鉱酸からヒ素を効率よく除去することができ、鉱酸を再生して有効に再利用することができるヒ素含有鉱酸の再生方法を提供する。【解決手段】希薄ヒ素を含有する鉱酸からヒ素を除去して鉱酸を再生する方法であって、固形硫化物及び/又は硫黄の存在下で前記ヒ素含有鉱酸を硫化水素ガスと接触させることによりヒ素を固形硫化ヒ素に変換し、次いで固液分離手段により前記固形硫化ヒ素を除去して再生鉱酸を得る。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

希薄ヒ素を含有する鉱酸からヒ素を除去して鉱酸を再生する方法であって、固形硫化物及び/又は硫黄の存在下で前記ヒ素含有鉱酸を硫化水素ガスと接触させることによりヒ素を固形硫化ヒ素に変換し、次いで固液分離手段により前記固形硫化ヒ素を除去して再生鉱酸を得ることを特徴とするヒ素含有鉱酸の再生方法。

IPC (6件)：

C01B17/90 , B01D19/00 , C02F1/20 , C02F1/62 , C02F1/72 , C02F1/74

FI (7件)：

C01B17/90 L , B01D19/00 F , B01D19/00 101 , C02F1/20 C , C02F1/62 Z , C02F1/72 C , C02F1/74 C

Fターム (18件)：

4D011AA15 , 4D011AA16 , 4D037AA11 , 4D037AB13 , 4D037BA23 , 4D037BB05 , 4D037BB07 , 4D037CA02 , 4D038AA10 , 4D038AB70 , 4D038AB80 , 4D038BB17 , 4D050AA12 , 4D050AA13 , 4D050AB41 , 4D050BB01 , 4D050BB09 , 4D050CA15

引用特許：

出願人引用 (7件)

特開昭48-089194
特開昭62-191409
特開昭48-096446

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審査官引用 (12件)

特開昭48-089194
特開昭48-089194
特開昭62-191409

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