特許

J-GLOBAL ID：200903085088632819

ヒ素含有鉱酸の処理方法

発明者： 張 亮 ,  小坂 千秋 ,  徳増 沙織
出願人/特許権者： 前澤工業株式会社 ,  ナガオ株式会社
代理人 (1件)： 木戸 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-200220
公開番号（公開出願番号）：特開2005-040656
出願日： 2003年07月23日
公開日（公表日）： 2005年02月17日
要約：

【課題】ヒ素濃度が1000ppm以下の希薄ヒ素を含有した鉱酸からヒ素を効率よく除去することができるヒ素含有鉱酸の処理方法を提供する。【解決手段】希薄ヒ素を含有する鉱酸からヒ素を除去するヒ素含有鉱酸の処理方法であって、固形硫化ヒ素及び/又は硫黄の存在下で前記ヒ素含有鉱酸に硫化ナトリウム水溶液及び/又は水硫化ナトリウム水溶液を添加してヒ素を固形硫化ヒ素に変換し、次いで固液分離手段により前記固形硫化ヒ素を除去する。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

希薄ヒ素を含有する鉱酸からヒ素を除去するヒ素含有鉱酸の処理方法であって、固形硫化ヒ素及び/又は硫黄の存在下で前記ヒ素含有鉱酸に硫化ナトリウム水溶液及び/又は水硫化ナトリウム水溶液を添加してヒ素を固形硫化ヒ素に変換し、次いで固液分離手段により前記固形硫化ヒ素を除去することを特徴とするヒ素含有鉱酸の処理方法。

IPC (5件)：

C02F1/58 ,  B01D19/00 ,  B01D21/00 ,  C02F1/20 ,  C02F1/72

FI (7件)：

C02F1/58 H ,  B01D19/00 D ,  B01D19/00 F ,  B01D19/00 101 ,  B01D21/00 B ,  C02F1/20 C ,  C02F1/72 C

Fターム (25件)：

4D011AA12 ,  4D011AA15 ,  4D011AA16 ,  4D011AD03 ,  4D037AA13 ,  4D037AB13 ,  4D037BA23 ,  4D037BB05 ,  4D037BB06 ,  4D037BB07 ,  4D038AA08 ,  4D038AB70 ,  4D038AB80 ,  4D038BB03 ,  4D038BB16 ,  4D038BB18 ,  4D050AA13 ,  4D050AB41 ,  4D050BB01 ,  4D050BB09 ,  4D050CA16 ,  4D050CA20 ,  4G048AA07 ,  4G048AB02 ,  4G048AE01

引用特許：

出願人引用 (6件)

• 特開昭48-089194
  
• 特開昭57-032786
  
• 特開昭48-096446
  
• 特開昭49-029298
  
• 硫酸鉄溶液中に存在する砒素の除去及び固定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-125211   出願人：同和鉱業株式会社, 秋田製錬株式会社
• ヒ素含有鉱酸の再生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-200218   出願人：前澤工業株式会社, ナガオ株式会社

審査官引用 (4件)

• 特開昭48-089194
  
• 特開昭48-089194
  
• 特開昭57-032786
  
• 特開昭57-032786