プラズマ活性形蒸発法による二酸化珪素の付着法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：生沼徳二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-177932
公開番号（公開出願番号）：特開平11-071676
出願日： 1998年06月25日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：

【要約】【課題】プラズマ活性化反応性付着法を使用して各種の基材上に引っ掻き抵抗性の酸化珪素皮膜を付着する方法。【解決手段】この方法は被覆する表面に向けられたアルゴンおよび亜酸化窒素プラズマ中に珪素または酸化珪素を蒸発することからなる。

請求項（抜粋）：

プラズマ領域中に導入された亜酸化窒素の存在下においてシリカのプラズマ活性形反応性蒸発を行ってポリカーボネート基材の上に摩耗抵抗性の皮膜を付着する方法。

IPC (5件)：

C23C 16/42 , C23C 14/06 , C23C 14/32 , C23C 16/50 , H01L 21/31

FI (5件)：

C23C 16/42 , C23C 14/06 E , C23C 14/32 B , C23C 16/50 , H01L 21/31 C

引用特許：

審査官引用 (8件)

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