特許

J-GLOBAL ID：200903028319084220

多孔質セラミック膜を有する多孔質無機材料及びその製造方法

発明者： 鈴木 毅裕 ,  間瀬 茂和 ,  長屋 重夫 ,  古村 清司
出願人/特許権者： 株式会社ノリタケカンパニーリミテド ,  中部電力株式会社
代理人 (1件)： 小玉 秀男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-012013
公開番号（公開出願番号）：特開2002-220292
出願日： 2001年01月19日
公開日（公表日）： 2002年08月09日
要約：

【要約】【課題】 無機系多孔質支持体の表面部に、全体的に均質な性状の多孔質セラミック膜が形成されて成る多孔質無機材料を提供すること。【解決手段】 上記多孔質無機材料を製造するための本発明の製造方法は、(a).無機系多孔質支持体の少なくとも一部の細孔に充填材を充填する処理、(b).充填された充填材を固める処理、(c).その充填材が充填された部分の表面部に多孔質セラミック膜を形成する処理、および、(d).その多孔質セラミック膜の形成された多孔質支持体から上記充填材を実質的に除去する処理を包含する。本製造方法によって得られた多孔質無機材料11は、無機系多孔質支持体2と多孔質セラミック膜3との境界面がほぼ平坦に形成されている。

請求項（抜粋）：

以下の処理:(a).無機系多孔質支持体の少なくとも一部の細孔に、液状の充填材を充填する処理;(b).充填された充填材を固める処理;(c).その充填材が充填された部分の表面部に多孔質セラミック膜を形成する処理;および(d).その多孔質セラミック膜の形成された多孔質支持体から前記充填材を実質的に除去する処理;を包含する、無機系多孔質支持体の表面部に多孔質セラミック膜が形成されて成る多孔質無機材料を製造する方法。

IPC (4件)：

C04B 38/00 304 ,  C04B 38/00 303 ,  B01D 71/02 500 ,  C04B 41/83

FI (4件)：

C04B 38/00 304 B ,  C04B 38/00 303 Z ,  B01D 71/02 500 ,  C04B 41/83 A

Fターム (17件)：

4D006GA42 ,  4D006MA02 ,  4D006MA22 ,  4D006MA31 ,  4D006MC03 ,  4D006MC03X ,  4D006NA12 ,  4D006NA62 ,  4D006NA64 ,  4D006PA03 ,  4D006PB63 ,  4D006PB66 ,  4D006PC67 ,  4D006PC69 ,  4D006PC80 ,  4G019FA11 ,  4G019FA13

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-105977
  
• ミクロ細孔セラミックの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-149499   出願人：エクソン・リサーチ・アンド・エンジニアリング・カンパニー